Titán alapú aktív ernyős plazmanitridálás
A plazmanitridálás korunk egyik legdinamikusabban fejlődő felületkezelési eljárása, mind önmagában, mind duplex felületkezelés részeként. Dolgozatomban nemesített 42CrMo4 próbatesteken vizsgálom, hogy titán aktív ernyős plazmanitridálás során a felületen létrejövő réteg tartalmaz-e titán nitridet, és hasonlítom össze a PVD eljárással felvihető titán nitrid réteggel. A plazmanitridálás során két eltérő geometriájú ernyővel, és több, különböző gáznyomáson végeztem kísérleteket. A munkadarabok felületén és keresztmetszetén energiadiszperzív röntgenspektroszkópiával határoztam meg a minőségi összetételt. Továbbá tanulmányoztam a PVD eljárás és plazmanitridálás mint duplex felületkezelés hatásosságát, keménység és létrejövő mikroszerkezet szempontjából.
