Plazmanitridálás hatása különböző fémek korróziós tulajdonságaira
Nitridált alkatrészeket széles körben alkalmaznak az iparban. A nitridálás során kialakuló kemény, kopásálló réteg fogaskerekek, dugattyúk, görgők és orvostechnikai eszközök alkalmazásánál is fontos szereppel bír az élettartam növelésében. A plazmanitridálás egy termokémiai felületkezelő eljárás, amely számos előnnyel rendelkezik a hagyományos nitridálási eljárásokhoz képest. A pozitív töltésű ionok a munkadarab felé gyorsulnak, majd a felületbe csapódás során átadódó energia felmelegíti a munkadarab felületét, így a részecskék fénykisülés mellett abszorbeálódnak.
Kutatásom során korróziós méréseket végeztem plazmanitridált 42CrMo4 valamint Ti-6Al-4V ELI alapanyagú próbatesteken. A korróziós ellenállás mérésére általában potenciodinamikus méréseket végeznek. Ezek során adott oldatban adott feszültséget vezetnek a próbatestre, majd a kimenő adatokat úgynevezett Tafel-görbén ábrázolják. Az alkalmazott oldatok igen széles skálán mozognak, emberi nyáltól kezdve, fiziológiás sóoldaton át egészen akár a salétromsavig vagy kénsavig is terjedhetnek. Nyilvánvalóan a felhasznált oldat kiválasztásánál fontos szerepet játszik, hogy milyen alkalmazási területre szánják később a vizsgált anyagot. Különböző módszerekkel előkészített anyagok korróziós tulajdonságai azonos körülmények között végzett potenciodinamikus mérésekkel jól összehasonlíthatók [1,2].
Jelen dolgozatomban a különböző módokon kezelt próbatestek korróziós viselkedését vizsgálom a szabványnak megfelelő paraméterekkel. Referenciaként nem nitridált próbatestek korróziós tulajdonságait is megvizsgálom. A mérések kiegészítéseképpen sztereomikroszkópos és pásztázó elektronmikroszkópos felvételeket is készítek a minták felületéről.
Irodalom:
[1] Samanta A, Bhattacharya M, Ratha I, et al. Nano- and micro-tribological behaviours of plasma nitrided Ti6Al4V alloys. J Mech Behav Biomed Mater. 2018;77:267-294.
[2] Zhang Y, Addison O, Yu F, et al. Time-dependent enhanced corrosion of Ti6Al4V in the presence of H2O2 and albumin. Sci Rep. 2018 Feb 16;8(1):3185.
